1.真空室尺寸 ：φ1000×1200；φ1200×1300；φ1400×1300；φ1600×1300； 材料：SUS304。
2.真空室結構 ：立式前開門(mén)結構、後置抽氣系統。
3.真空系統 ：機(jī)械泵+羅茨泵+擴散泵+維持泵（或配選分(fēn)子泵、深冷(lěng)泵、深冷(lěng)系統）。
4.循環冷(lěng)卻水裝置 ：雙層水套式或水槽式冷(lěng)卻系統。
5.工(gōng)藝電源 ：直流電源、中頻電源、電弧電源、燈絲電源、活化電源、脈沖偏壓電源。
6.多弧靶 ：多弧靶5個或18個，1個或2個柱弧靶。
7.孿生(shēng)靶 ：中頻孿生(shēng)柱靶或平面靶（1～4對）。
8.加熱(rè)系統 ：常溫至350度可(kě)調可(kě)控(PID溫控)，不鏽鋼加熱(rè)管加熱(rè)。
9.充氣系統 ：質量流量控制儀（1～4路(lù)）。
10.極限真空 ：6×10-4Pa（空載、淨室）。
11.抽氣時間 ：空載大(dà)氣抽至5×10-3Pa小于13分(fēn)鍾。
12.工(gōng)件(jiàn)旋轉方式 ：上旋轉或下旋轉+公自(zì)轉無極可(kě)控調控，0-20轉/分(fēn)。
13.控制系統 ：可(kě)編程控制器，觸摸屏。
鍍膜材料 ：适用各種金屬鍍膜（TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbN、TiCrN、TiNC及各類金鋼石膜DLC金屬材料）。
鍍膜品質 ：膜層密度高、附着力強、沉積速度快(kuài)等。
鍍膜種類 ：多功能金屬膜、複合膜、透明導電膜、增返射膜、電磁屏蔽膜、裝飾膜等。
占地面積 ：比同類設備安裝面積和操作(zuò)面積相(xiàng)對較小。
操作(zuò)方法 ：人(rén)機(jī)界面可(kě)以直觀的進行設置和監控，設有管理(lǐ)密碼，無關人(rén)員(yuán)無法更改。
